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拓荆创益申请一种匀气结构及半导体设备专利, 提升喷淋板气体分布均匀性

金融界2025年4月5日消息,国家知识产权局信息显示,拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请一项名为“一种匀气结构及半导体设备”的专利,公开号CN119753635A,申请日期为2024年12月。 专利...

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